Opis

Pošlji povpraševanje

Heksametildisilazan (HMDS) – silazan visoke čistosti za polprevodnike in aplikacije za obdelavo površin CAS št.: 999-97-3

Dobavitelj heksametildisilazana (HMDS)|Silazan visoke čistosti CAS 999-97-3

Heksametildisilazan visoke čistosti (HMDS, CAS 999-97-3) za obdelavo polprevodnikov, spodbujanje adhezije, sililacijo, površinsko obdelavo in uporabo naprednih materialov.

Pregled izdelka

Heksametildisilazan se imenuje tudi bis(trimetilsilil)amin; HMDS; HMDZ. Je izjemno vsestransko in močno sililirno sredstvo. Uporablja se predvsem za zaščito občutljivih funkcionalnih skupin med kemično sintezo.

je organosilicij silazan visoke čistosti, ki se pogosto uporablja vobdelava polprevodnikov, spodbujanje adhezije, reakcije sililiranja, površinska obdelava in napredne aplikacije materialov.Zaradi svojih odličnih lastnosti za{0}}reaktivnost vlage in močne hidrofobne sposobnosti modifikacije je HMDS postal eden najpomembnejših silazanskih materialov v industriji elektronike in precizne kemije.

Zakaj je HMDS pomemben?

HMDS je zelo funkcionalen silazanski material s široko industrijsko združljivostjo.

Odlična hidrofobna modifikacija

Preoblikuje hidrofilne površine v hidrofobne

Močno spodbujanje oprijema

Izboljša oprijem fotorezista pri obdelavi polprevodnikov

Učinkovit reagent za sililacijo

Pogosto se uporablja v organski sintezi in zaščiti funkcionalnih skupin

Zmogljivost visoke čistosti

Primerno za uporabo v preciznih in elektronskih aplikacijah

👉 HMDS je eden ključnih silazanskih materialov v polprevodniški in napredni kemični industriji.

Tehnične specifikacije

Postavka	Tipična vrednost
Ime izdelka	Heksametildisilazan
št. CAS	999-97-3
Molekularna formula	C6H19NSi2
Videz	Brezbarvna prozorna tekočina
Čistost	Večji ali enak 99,0 %
Gostota (25 stopinj)	~0,77 g/cm³
Vrelišče	~126 stopinj
Občutljivost na vlago	Reaktivno

Ključne aplikacije

1. Polprevodniki in fotolitografija

HMDS se pogosto uporablja kot spodbujevalec oprijema v proizvodnji polprevodnikov.

Aplikacije:

Obdelava površine rezin
Spodbujanje adhezije fotorezista
Litografska obdelava

Prednosti:

Izboljšan oprijem fotorezista
Izboljšana doslednost postopka
Boljša zmogljivost površine rezin

👉 HMDS je eden najpogosteje uporabljenih pospeševalcev oprijema v procesih fotolitografije.

2. Površinska hidrofobna obdelava

HMDS reagira s površinami,-ki vsebujejo hidroksil, da ustvari hidrofobne plasti.

Aplikacije:

Obdelava stekla
Modifikacija površine silicijevega dioksida
Sistemi funkcionalnih premazov

Prednosti:

Vodoodbojnost
Površinska zaščita
Izboljšana vzdržljivost

Sililacijski reagent v kemijski sintezi

Pogosto se uporablja v organski sintezi in analitični kemiji.

Aplikacije:

Zaščita funkcionalne skupine

Derivatizacijske reakcije

Vmesna sinteza

Prednosti:

Visoka učinkovitost reakcije

Stabilno reakcijsko vedenje

Široka kemična združljivost

Napredni materiali in elektronika

Primerno za:

Elektronski materiali

Natančna kemija

Napredni sistemi za spreminjanje površin

Zakaj je HMDS visoke čistosti pomemben

Čistost je ključnega pomena za polprevodniške in natančne aplikacije.

Nizka vsebnost vlage

Izboljša stabilnost in doslednost procesa

Stabilna učinkovitost čistosti

Primerno za občutljive industrijske sisteme

Boljši rezultati površinske obdelave

Zagotavlja zanesljivo hidrofobno modifikacijsko obnašanje

👉 HMDS visoke čistosti je še posebej pomemben v industriji elektronike in polprevodnikov.

HMDS proti konvencionalnim silanom

Lastnina	HMDS	Konvencionalni silani
Jedrna struktura	Si–N–Si	Si–O / Si–C
Glavna funkcija	Sililacija in oprijem	Spajanje in lepljenje
Uporaba polprevodnikov	Odlično	Omejeno
Hidrofobna obdelava	Močna	Zmerno